Aplicacions del material metàl·lic tàntal

El material objectiu de tàntal sol anomenar-se objectiu nu, en primer lloc, es soldarà amb un objectiu de suport de coure, i després sputtering òptic o semiconductor, els àtoms de tàntal es dipositaran al material del substrat amb formació d'òxid per realitzar un recobriment de sputtering; a la indústria dels semiconductors, actualment, l'ús principal del tàntal metàl·lic (Ta) mitjançant el recobriment de deposició física de vapor (PVD) i la formació d'una capa barrera com a material objectiu. Com tots sabem, tot i que el rendiment del metall de tàntal és relativament estable, però la mida de partícula més fina de la pols de metall de tàntal és més activa i reacciona amb l'oxigen, el nitrogen, etc. a temperatura ambient, de manera que l'oxigen, el nitrogen i altres impureses en el contingut en pols de tàntal augmenta. Per obtenir objectius de tàntal d'alta qualitat, primer cal reduir el contingut d'impureses de la pols de tàntal i millorar la puresa de la pols de tàntal. La reducció de la mida de les partícules de la pols de tàntal és necessària per millorar la qualitat de la pols de tàntal i els objectius de tàntal. Els objectius de tantal s'utilitzen principalment en recobriment de semiconductors, recobriment òptic, decoració, pantalles de pantalla plana, recobriment funcional i altres indústries espacials d'emmagatzematge d'informació òptica, indústries de recobriment de vidre com ara el vidre d'automoció i el vidre arquitectònic i les comunicacions òptiques. Els semiconductors utilitzen el procés de deposició física de vapor (PVD) per "sputtering" objectius de tàntal sobre substrats semiconductors per formar barreres de difusió de pel·lícula prima per protegir les interconnexions de coure. Les dianes de tàntal també s'utilitzen en una varietat d'altres productes, com ara suports d'emmagatzematge magnètics, capçals d'impressora d'injecció de tinta i pantalles de pantalla plana. L'alt punt de fusió i la resistència a la corrosió de les pales de la turbina del motor els fan ideals per a aplicacions d'aliatge. El tàntal s'utilitza en aliatges d'alta temperatura a base de níquel, amb les principals aplicacions de les pales de turbines per a motors d'avions i turbines de gas terrestres. Els equips de processament químic tenen una resistència extremadament alta a la corrosió i a les altes temperatures, cosa que fa que el metall sigui un material de construcció ideal per al revestiment de recipients, canonades, vàlvules i intercanviadors de calor a la indústria química i farmacèutica.